世界初、新素材グラフェンの大量合成法の開発に成功！多数の世界特許でグローバル展開する研究開発型企業

会社概要

新規な炭素材料および、それを活用した応用製品のものづくりメーカー。ナノカーボン材料の実用化に取り組む研究開発型企業である。数層グラフェンの直接合成に成功。

研究開発型ベンチャー企業として創業し、世界に先駆けて、新素材グラフェンの大量合成法の開発に成功、その素材を適用した画期的な高性能放熱部材の事業化を推進している。
研究開発型ベンチャー企業として2007年に神戸で創立。新規な素材として世界的に注目され、2010年にノーベル賞を受賞したグラフェンに着目し、世界に先駆けてグラフェンの大量合成方法を開発し、研究開発用途への製品提供をおこなってきた。

グラフェンについては、積層数が数層の多層グラフェンを無基板、無触媒で直接合成することに世界で初めて成功し、その抽出液を商品化。
このグラフェンをはじめに、これまで生産性が低く不均質な材料であるために実用化が遅れていたカーボンナノチューブ、ユニークな構造をもつ各種カーボンナノファイバー、グラファイトなどの炭素材料を、今後の成長が期待される有望市場の市場ニーズにカスタマイズした形で提供していくことを、事業コンセプトとしている。
これまでに世界特許を80件ほど保有し、米国、欧州、中国、韓国、台湾を含めたグローバルな事業展開を、開発当初より手掛けている。

IoT、AI、クラウドなどの伸長により大きな市場成長が見込まれるIT市場では、それを支える半導体チップの発熱が大きな懸念事項になっている。当社は、システムの破壊を回避するための高性能な放熱、冷却部材を開発し、大手ITメーカでの評価と並行して、量産体制を構築しつつ、本格的な事業化を推進している。

また、自動車のEV化にともない、電池も有望な成長市場。カーボン材料は、リチウムイオン電池をはじめとして、各種の電池の電極に実用されている。当社は電池市場も対象市場としており、燃料電池、スーパーキャパシタ電極、アルミ多価イオン電池などの課題を解決する、ユニークなグラフェン電極の研究開発も並行して推進している。

IT技術の進展は、IoTもAIも半導体チップが連結してなされるもので、半導体チップの高性能化と表裏一体。ところが、半導体の高性能化により、それに流れる電流が大きくなり、その発熱が大問題になってきている。すでに、スマートフォン、タブレットPC、HMD、液晶TVなど、身近な製品の半導体チップには放熱部材が装填されており、これが外れると、数分で200℃以上に発熱し、壊れてしまうとういう現実がある。
そこで、当社は数年前から優れた熱伝導性能をもつグラフェンを使って、高性能な放熱部材の開発に取り組んできた。
開発の過程で、Microsoft、Google、Apple、Amazon、Intel、TI、DELL、Samsungなどの大手IT企業とコンタクトし、そのニーズを製品開発に活かすべく活動してきたが、熱対策に対するニーズは予想以上であり、現在30社以上の企業との協業を進めている。

業務内容

炭素材料事業

1. ナノカーボン素材（グラフェン、CNT）
2. グラフェン応用部材
3. 研究開発、試作受託

プロダクト

• グラフェンクロス
• グラフェンシート（「3D GRAPHITE PARTS」、「GRAPHENE SHEET」）
• グラフェンチューブ（「GT3W1-D2」、「GT3W1-D3」、「GT3W1-D4」、「GT3W1-DS」）
• グラフェンフラワー（「GF4W1-D3」「GF4W1-D4」「GF4W1-DS」「GF4W2-D3」）

代表取締役社長　村松一生

（同社Webサイトおよび同社Wantedly掲載情報を基に当社編集）